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高纯钒靶V-target 钒粒 氧化钒靶材 镍钒合金 蒂姆

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规格: 尺寸可定制
包装: 双层真空包装
运输方式: 快递包邮
单价: 1000.00元/g
起订: 10 g
供货总量: 100000 g
发货期限: 自买家付款之日起 7 天内发货
所在地: 北京
有效期至: 长期有效
最后更新: 2021-01-04 09:56
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公司基本资料信息
详细说明
 高纯钒靶V-target 钒粒 氧化钒靶材 镍钒合金 蒂姆
蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺金属单质靶材。
常用参数:
靶材纯度:99.7%、99.9%、99.95%、99.99%、99.999%、99.9999%
制备工艺:热等静压、真空熔炼等
靶材形态:平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶
圆靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
包装方式:真空包装
化学式 品名 纯度(%) 熔点(℃) 密度(g/cm³) 品牌 制备方法 适用设备
Ag 银 靶材 4N,5N 961 10.49 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Al 铝 靶材 3N,4N,5N,6N 660 2.7 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Au 金 靶材 4N,5N 1062 19.32 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
B 硼 靶材 2N,3N 2300 2.31 蒂姆新材料 特殊烧结 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Bi 铋 靶材 4N 271.4 9.79 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
C 石墨 靶材 4N 3652 2.28 蒂姆新材料 特殊烧结 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cd 镉 靶材 5N 321.1 8.65 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Co 钴 靶材 3N5 1495 8.9 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cr 铬 靶材 3N5 1890 7.2 蒂姆新材料 特殊烧结 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cu 铜 靶材 3N5,4N5,5N,6N 1083 8.92 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Fe 铁 靶材 3N5 1535 7.86 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ge 锗 靶材 5N,6N 937 5.35 蒂姆新材料 特殊烧结 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
In 铟 靶材 4N5 157 7.3 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Li 锂 靶材 3N 180 0.53 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mg 镁 靶材 3N5 651 1.74 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mn 锰 靶材 2N7 1244 7.2 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mo 钼 靶材 3N5 2617 10.22 蒂姆新材料 特殊烧结 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Nb 铌 靶材 3N5 2468 8.55 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ni 镍 靶材 3N,4N,5N 1453 8.9 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pb 铅 靶材 4N,5N,6N 328 11.34 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pd 钯 靶材 3N5 1555 12.02 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pt 铂 靶材 4N 1774 21.5 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Rh 铑 靶材 3N5 1955 12.5 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ru 钌 靶材 3N5 2310 12.3 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sb 锑 靶材 4N,5N 630.7 6.68 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sc 钪 靶材 4N 1814 2.98 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Se 硒 靶材 4N,5N 217 4.28 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Si 硅 靶材 5N,6N 1410 2.42 蒂姆新材料 特殊烧结 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sn 锡 靶材 4N,5N,6N 232 7.75 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ta 钽 靶材 3N5 2996 16.60  蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Te 碲 靶材 4N,5N,6N 425 6.25 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ti 钛 靶材 3N,4N,5N 1675 4.5 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
V 钒 靶材 3N 1919 6.11 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
W 钨 靶材 3N5 3410 19.3 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Y 钇 靶材 3N 1522 4.47 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Zn 锌 靶材 3N,4N,5N 419 7.14 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Zr 锆 靶材 4N 1477 6.4 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Hf 铪 靶材 2N5,3N5 2233 13.31 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Re 铼 靶材 3N5 3180 21.02 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ir 铱 靶材 3N5 2410 22.56 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
La 镧 靶材 3N 921 6.17 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ce 铈 靶材 3N 799 6.7 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sm 钐 靶材 3N 1072 7.54 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Eu 铕 靶材 3N 822 5.26 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Gd 钆 靶材 3N 1311 7.9 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Tb 铽 靶材 3N 3230 8.22 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Dy 镝 靶材 3N 1412 8.55 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Er 铒 靶材 3N 1522 8.8 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Yb 镱 靶材 3N 824 6.98 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Lu 镥 靶材 3N 1663 9.84 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pr 镨 靶材 3N 931 6.77 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Nd 钕 靶材 3N 1016 7.01 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ho 钬 靶材 3N 1470 8.8 蒂姆新材料 真空熔炼 磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
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