高纯钒靶V-target 钒粒氧化钒靶材镍钒合金蒂姆

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规格：	尺寸可定制
包装：	双层真空包装
运输方式：	快递包邮
单价：	1000.00元/g
起订：	10 g
供货总量：	100000 g
发货期限：	自买家付款之日起 7 天内发货
所在地：	北京
有效期至：	长期有效
最后更新：	2021-01-04 09:56
浏览次数：	4

公司基本资料信息

蒂姆（北京）新材料科技有限公司
[诚信档案]
已缴纳 0.00 元保证金
联系人张慧慧(女士) 销售总监
会员 [当前离线] [加为商友] [发送信件]
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地区北京
地址北京市丰台区南四环西路128号院4号楼12层1515-1516（园区）

详细说明

高纯钒靶V-target 钒粒氧化钒靶材镍钒合金蒂姆

蒂姆（北京）新材料科技有限公司可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺金属单质靶材。常用参数：靶材纯度：99.7%、99.9%、99.95%、99.99%、99.999%、99.9999% 制备工艺：热等静压、真空熔炼等靶材形态：平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶圆靶尺寸：φ25.43mm、φ503mm、φ50.84mm、φ603mm、φ76.23mm、φ804mm、φ101.65mm、φ152.46mm 尺寸可定制方靶尺寸：50503mm、1001004mm、3003005mm 尺寸可定制包装方式：真空包装








化学式	品名	纯度（%）	熔点(℃)	密度(g/cm³)	品牌	制备方法	适用设备
Ag	银靶材	4N,5N	961	10.49	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Al	铝靶材	3N,4N,5N,6N	660	2.7	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Au	金靶材	4N,5N	1062	19.32	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
B	硼靶材	2N,3N	2300	2.31	蒂姆新材料	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Bi	铋靶材	4N	271.4	9.79	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
C	石墨靶材	4N	3652	2.28	蒂姆新材料	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cd	镉靶材	5N	321.1	8.65	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Co	钴靶材	3N5	1495	8.9	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cr	铬靶材	3N5	1890	7.2	蒂姆新材料	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cu	铜靶材	3N5,4N5,5N,6N	1083	8.92	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Fe	铁靶材	3N5	1535	7.86	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ge	锗靶材	5N,6N	937	5.35	蒂姆新材料	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
In	铟靶材	4N5	157	7.3	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Li	锂靶材	3N	180	0.53	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mg	镁靶材	3N5	651	1.74	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mn	锰靶材	2N7	1244	7.2	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mo	钼靶材	3N5	2617	10.22	蒂姆新材料	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Nb	铌靶材	3N5	2468	8.55	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ni	镍靶材	3N,4N,5N	1453	8.9	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pb	铅靶材	4N,5N,6N	328	11.34	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pd	钯靶材	3N5	1555	12.02	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pt	铂靶材	4N	1774	21.5	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Rh	铑靶材	3N5	1955	12.5	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ru	钌靶材	3N5	2310	12.3	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sb	锑靶材	4N,5N	630.7	6.68	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sc	钪靶材	4N	1814	2.98	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Se	硒靶材	4N,5N	217	4.28	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Si	硅靶材	5N,6N	1410	2.42	蒂姆新材料	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sn	锡靶材	4N,5N,6N	232	7.75	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ta	钽靶材	3N5	2996	16.60	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Te	碲靶材	4N,5N,6N	425	6.25	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ti	钛靶材	3N,4N,5N	1675	4.5	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
V	钒靶材	3N	1919	6.11	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
W	钨靶材	3N5	3410	19.3	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Y	钇靶材	3N	1522	4.47	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Zn	锌靶材	3N,4N,5N	419	7.14	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Zr	锆靶材	4N	1477	6.4	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Hf	铪靶材	2N5,3N5	2233	13.31	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Re	铼靶材	3N5	3180	21.02	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ir	铱靶材	3N5	2410	22.56	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
La	镧靶材	3N	921	6.17	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ce	铈靶材	3N	799	6.7	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sm	钐靶材	3N	1072	7.54	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Eu	铕靶材	3N	822	5.26	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Gd	钆靶材	3N	1311	7.9	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Tb	铽靶材	3N	3230	8.22	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Dy	镝靶材	3N	1412	8.55	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Er	铒靶材	3N	1522	8.8	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Yb	镱靶材	3N	824	6.98	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Lu	镥靶材	3N	1663	9.84	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pr	镨靶材	3N	931	6.77	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Nd	钕靶材	3N	1016	7.01	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ho	钬靶材	3N	1470	8.8	蒂姆新材料	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜

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