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高纯银颗粒5NAgLED半导体蒸镀用银颗粒贵金属靶材

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规格: 靶材可定制
包装: 双层真空包装
运输方式: 快递包邮
单价: 1000.00元/g
起订: 10 g
供货总量: 100000 g
发货期限: 自买家付款之日起 7 天内发货
所在地: 北京
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-11-05 09:27
浏览次数: 4
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公司基本资料信息
详细说明
高纯银颗粒5NAgLED半导体蒸镀用银颗粒贵金属靶材
银是一种银白色的过渡金属。银的化学性质稳定,活跃性低,价格贵,导热、导电性能很好,不易受化学药品腐蚀,质软,富延展性。其反光率极高,可达99%以上。电子电器是用银量最大的行业,卤化银感光材料是用银量最大的领域之一。
一、物理性质
原 子 量:107.868
密    度:10.53g/cm3(20℃)
熔    点:961.78℃沸点:2213℃
熔 解 热:11.30千焦/摩尔汽化热:250.580千焦/摩尔
反 射 率:91%电阻率:1.586×10^-8 Ω•m(20℃)
外    观:银白色金属
蒸发温度:饱和蒸汽压为1.33Pa时为1030℃
蒸发源材料:(Ta、Mo、W)(丝、片),(Mo、C)坩埚
性能:具有优良的延展性,是电和热的良导体。
用途:制造银币和装饰品,在电子、计算机、通信、军工、航空航天、影视、照相等行业也有广泛的应用。
二、主要产品
1、银 颗粒 99.99%(点击查看详情)
常规尺寸:3*6mm;尺寸可定做
用途:热蒸镀、电子束蒸镀、熔炼等
2、银 丝 99.99%
常规尺寸:0.5mm;1mm;尺寸可定做
用途:蒸发镀膜
3、银 靶材 99.99%(点击查看详情)
常规尺寸:50*3mm;75*4mm;101.6*5mm;尺寸可定做
用途:磁控溅射
4、SEM银靶材 99.99%
常规尺寸:57*0.1mm;57*0.2mm;58*0.1mm;58*0.2mm;尺寸可定做
应用:扫描电镜SEM设备
5、银 粉末 99.99%
常规尺寸:-325目;粒径可定做
用途:粉末冶金、银浆制备等
6、银 箔片 99.99%
常规尺寸:100*100*0.2mm等,尺寸可定做
应用:蒸镀、熔炼等
更多产品可咨询客服人员。
高纯银颗粒5NAgLED半导体蒸镀用银颗粒贵金属靶材
蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺金属氧化物靶材。
常用参数:
靶材纯度:99.9%、99.95%、99.99%
制备工艺:热等静压、常温烧结等
靶材形态:平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶
圆靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
绑定服务:陶瓷靶材亦可提供铜背靶铟焊绑定服务,提高陶瓷靶材导电导热性,提高使用效率
包装方式:真空包装
化学式 品名 纯度(%) 致密度 品牌 适用设备
SiO2 二氧化硅 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
HfO2 二氧化铪 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
TiO2 二氧化钛 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
ZrO2 二氧化锆 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
WO3 三氧化钨 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Nb2O5 五氧化二铌 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Ta2O5 五氧化二钽 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
MoO3 三氧化钼 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Sc2O3 三氧化二钪 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Al2O3 氧化铝 靶材 3N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
ZnO 氧化锌 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
MgO 氧化镁 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Bi2O3 氧化铋 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Cr2O3 氧化铬 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
NiO 氧化镍 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
V2O5 氧化钒 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Y2O3 氧化钇 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
AZO 氧化锌铝 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
ITO 氧化铟锡 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
CeO2 二氧化铈 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Er2O3 氧化铒 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Sm2O3 氧化钐 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Nd2O3 氧化钕 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
Fe3O4 氧化铁 靶材 4N >80% 蒂姆新材料 磁控溅射设备、离子溅射仪
高纯银颗粒5NAgLED半导体蒸镀用银颗粒贵金属靶材
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